Bruchempfindliche Substrate reinigen und beschichten
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Für die Reinigung und Beschichtung von bruchempfindlichen Substraten in der Solar- und Halbleiterindustrie wurde ein besonders schonendes Verfahren entwickelt. Es ermöglicht, auf Substraten ab 50 µm Stärke unterschiedliche Nassprozesse inline durchzuführen — einseitig und simultan zweiseitig.