Bruchempfindliche Substrate reinigen und beschichten
Für die Reinigung und Beschichtung von bruchempfindlichen Substraten in der Solar- und Halbleiterindustrie wurde ein besonders schonendes Verfahren entwickelt. Es ermöglicht, auf Substraten ab 50 µm Stärke unterschiedliche Nassprozesse inline durchzuführen — einseitig und simultan zweiseitig.