Restorganik im Atomprozentbereich

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Bei Lasersystemen, die unter Hochvakuumbedingungen betrieben werden, geht bereits von minimalen organischen Rückständen das Risiko einer Prozessstörung aus. Ein Laser-Hersteller ersetzte deshalb die manuelle Endreinigung durch eine automatische Lösemittelreinigung mit integrierter, nachgeschalteter Niederdruckplasma-Behandlung. 

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