Hochreine Oberflächen im Ultrahochvakuum

Diener electronic GmbH + Co. KG

img

Innovative Ultrahochvakuum-Plasmaanlagen sorgen bei der Feinstreinigung für eine verbesserte Effizienz. Sie kommen zur Entfernung organischer Rückstände zum Einsatz. 

Dieser Inhalt steht nur registrierten und eingeloggten Abonnenten zur Verfügung.


Sie sind noch kein Abonnent von JOT – Journal für Oberflächentechnik?

Sichern Sie sich jetzt alle Vorteile!

Alle Fachartikel der Ausgabe 14/2014