Schonender Ultraschall für empfindliche Substrate

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Empfindliche Bauteile wie monokristalline Wafer aus der Photovoltaik- und Halbleiterindustrie stellen ebenso wie optische Linsen und Prismen höchste Anforderungen an die Teilereinigung: Winzigste Kontaminationen müssen ohne eine Beeinträchtigung der Oberfläche schonend und stabil stabil entfernt werden. Für diese anspruchsvollen Reinigungsaufgaben hat Weber Ultrasonic ein intelligentes Ultraschallsystem (Sonopower 3S Megaschall-System) mit Frequenzen von 500 bis 1000 kHz entwickelt. Im Betrieb ermöglicht der Generator durch verschiedene Features, dass die Reinigung sanft für die Oberfläche erfolgt, Verunreinigungen aber zuverlässig entfernt werden. Dazu zählt die kombinierte Frequenz- und Amplitudenmodulation, die für homogene Schallfelder sorgt und sogenannte stehende Wellen verhindert. Durch den Sonoscan wird die optimale Arbeitsfrequenz automatisch ermittelt und eingestellt sowie während des Prozesses überwacht und angepasst. Dies gewährleistet, dass auch bei sich verändernden Betriebsbedingungen stets mit der idealen Leistung gearbeitet wird. Die Anpassungen erfolgen im laufenden Betrieb, was einen unterbrechungsfreien Betrieb sicherstellt.
Eine weitere Besonderheit des Generators ist das Netzspannungsmanagement. Da es Spannungsschwankungen automatisch ausgleicht, ist eine maximale Prozessstabilität und Betriebssicherheit gewährleistet. Die Leistung kann stufenlos im Bereich von 10 bis 100 Prozent geregelt werden, wodurch sie bestmöglich an das jeweilige Bauteil angepasst werden kann. Die optionale, in den Generator integrierte Profinet-Schnittstelle ermöglicht den Betrieb aus der Ferne, wobei die ultraschallspezifischen Prozessparameter während der Reinigung präzise gesteuert und dokumentiert werden. Optimal auf den Generator abgestimmt, ermöglichen neue Hochfrequenzschwinger eine effektive Kavitationsströmung und damit effiziente Weiterverarbeitung der sauberen Bauteile.

Der vollständige Beitrag ist in der Mai/Juni-Ausgabe von JOT erschienen.

Autor(en): Wi

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