29.06.2023 | Anlagentechnik
Restorganik im Atomprozentbereich
Bei Lasersystemen, die unter Hochvakuumbedingungen betrieben werden, geht bereits von minimalen organischen Rückständen das Risiko einer Prozessstörung aus. Ein Laser-Hersteller ersetzte deshalb die manuelle Endreinigung durch eine automatische Lösemittelreinigung mit integrierter, nachgeschalteter Niederdruckplasma-Behandlung. PDF-Download