Prozesssicher kein Partikel größer 1 μm

Doris Schulz

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Für die Endreinigung von Mikrostrukturen investierte die POG Präzisionsoptik Gera in ein neues Ultraschall-Feinstreinigungssystem. Es können damit sowohl unbearbeitete Wafer als auch strukturierte und beschichtete Substrate gereinigt werden. Dabei werden die hohen Sauberkeitsanforderungen prozesssicher erfüllt. 

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