Prozesssicher kein Partikel größer 1 μm
Doris Schulz
Für die Endreinigung von Mikrostrukturen investierte die POG Präzisionsoptik Gera in ein neues Ultraschall-Feinstreinigungssystem. Es können damit sowohl unbearbeitete Wafer als auch strukturierte und beschichtete Substrate gereinigt werden. Dabei werden die hohen Sauberkeitsanforderungen prozesssicher erfüllt.